某硫酸廠以黃鐵礦(主要成分是FeS2)為主要原料,生產(chǎn)硫酸的簡(jiǎn)要流程圖如下:
(1)寫(xiě)出流程圖中硫的一種氧化物名稱(chēng):二氧化硫或三氧化硫二氧化硫或三氧化硫。
(2)沸騰爐中發(fā)生的反應(yīng)的化學(xué)方程式:4FeS2+11O2 高溫 2Fe2O3+8SO24FeS2+11O2 高溫 2Fe2O3+8SO2。
(3)催化反應(yīng)室中發(fā)生的是化合反應(yīng),寫(xiě)出該反應(yīng)的化學(xué)方程式:2SO2+O2 催化劑 △2SO32SO2+O2 催化劑 △2SO3。
(4)沸騰爐中的爐渣(Fe2O3)可用于煉鐵,寫(xiě)出用一氧化碳和爐渣煉鐵的化學(xué)方程式:3CO+Fe2O3 高溫 2Fe+3CO23CO+Fe2O3 高溫 2Fe+3CO2。
(5)排放的廢氣中含有SO2,為實(shí)現(xiàn)“變廢為寶”,該硫酸廠脫硫工藝的主要反應(yīng)是2SO2+2CaO+O2 一定條件 2CaSO4,該反應(yīng)前后化合價(jià)升高的元素是 SS。
高溫
高溫
催化劑
△
催化劑
△
高溫
高溫
一定條件
【考點(diǎn)】物質(zhì)的相互轉(zhuǎn)化和制備;有關(guān)元素化合價(jià)的計(jì)算;書(shū)寫(xiě)化學(xué)方程式、文字表達(dá)式、電離方程式;從組成上識(shí)別氧化物;酸雨的產(chǎn)生、危害及防治.
【答案】二氧化硫或三氧化硫;4FeS2+11O2 2Fe2O3+8SO2;2SO2+O2 2SO3;3CO+Fe2O3 2Fe+3CO2;S
高溫
催化劑
△
高溫
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
聲明:本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書(shū)面同意,不得復(fù)制發(fā)布。
發(fā)布:2024/4/20 14:35:0組卷:18引用:1難度:0.3
相似題
-
1.芯片是所有電腦、“智能家電”的核心部件,它是以高純度的單質(zhì)硅為材料制成的。硅及氧化物能發(fā)生
如下反應(yīng):①Si+O2SiO2②SiO2+Na2CO3△Na2SiO3+CO2↑③SiO2+2C高溫Si+2CO↑高溫
④Si+2NaOH+H2ONa2SiO3+2H2↑,下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是( )△發(fā)布:2024/12/22 8:0:1組卷:27引用:1難度:0.2 -
2.高純碳酸鈣廣泛應(yīng)用于電子、醫(yī)藥等領(lǐng)域。某化工廠利用優(yōu)質(zhì)石灰石(含少量SiO2等不溶于水和稀鹽酸的雜質(zhì))為原料得到高純CaCO3.其工藝流程如圖。
(1)SiO2中Si的化合價(jià):
(2)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行操作Ⅰ的名稱(chēng)是
(3)請(qǐng)完成“轉(zhuǎn)化步驟中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式:CaCl2+2NH3+CO2+
(4)該工藝的副產(chǎn)品NH4Cl的用途有發(fā)布:2024/12/22 8:0:1組卷:22引用:2難度:0.5 -
3.芯片是中美經(jīng)貿(mào)摩擦的焦點(diǎn)之一、如圖所示為制造芯片主要材料高純硅的生產(chǎn)流程(反應(yīng)條件已略去)。下列說(shuō)法正確的是( ?。?br />
發(fā)布:2024/12/22 8:0:1組卷:75引用:1難度:0.7
把好題分享給你的好友吧~~