氧族元素及其化合物在生產(chǎn)、生活中發(fā)揮著重要的作用?；卮鹣铝袉?wèn)題：
（1）工業(yè)上常用硫化物（FeS等）作沉淀劑除去廢水中的Cu²⁺等重金屬離子。已知常溫下CuS飽和溶液中，-lgc（Cu²⁺）和-lgc（S^2-）關(guān)系如圖1所示，K_sp（CuS）=

10^-36

10^-36

；圖中a、b、c三點(diǎn)對(duì)應(yīng)的溶液中，一定存在CuS沉淀的是

b

b

（填序號(hào)）。

（2）工業(yè)上常用連二亞硫酸鈉（Na₂S₂O₄）消除煙氣中的NO，通過(guò)電解可使Na₂S₂O₄再生，裝置如圖2所示。吸收塔內(nèi)發(fā)生的離子反應(yīng)方程式為

2S₂O₄^2-+2NO+2H₂O=N₂+4SO₃^2-+4H⁺

2S₂O₄^2-+2NO+2H₂O=N₂+4SO₃^2-+4H⁺

。吸收塔內(nèi)每吸收11.2L的NO，理論上Pt₂電極上會(huì)放出

5.6

5.6

L氣體（氣體體積均為標(biāo)準(zhǔn)狀況）。
（3）硒是人體必需的微量元素。工業(yè)上將含硒工業(yè)廢料處理得到亞硒酸（H₂SeO₃）和硒酸（H₂SeO₄），進(jìn)而制備單質(zhì)硒。亞硒酸（H₂SeO₃）在溶液中存在多種微粒形態(tài)，25℃時(shí)各微粒的分布系數(shù)δ與溶液pH的關(guān)系如圖3所示。（分布系數(shù)即組分的平衡濃度占總濃度的分?jǐn)?shù)）
①將KOH滴入H₂SeO₃溶液中，當(dāng)pH達(dá)到2.0時(shí)，發(fā)生反應(yīng)的離子方程式是

H₂SeO₃+OH^-=HSeO₃^-+H₂O

H₂SeO₃+OH^-=HSeO₃^-+H₂O

。
②25℃時(shí)，KHSeO₃溶液的pH＜7，通過(guò)計(jì)算和必要的文字加以解釋：

KHSeO₃溶液中既存在HSeO₃^-的電離：HSeO₃^-?SeO₃^2-+H⁺，也存在HSeO₃^-的水解：HSeO₃^-+H₂O?H₂SeO₃+OH^-，由圖可知，HSeO₃^-的電離平衡常數(shù)K_a2=10^-7.3，HSeO₃^-的水解常數(shù)K_h=

c

（

H

2

S

e

O

3

）

?

c

（

OH

-

）

c

（

HS

e

O

3

-

）

=

K

w

K

a

1

=

10

-

14

10

-

2

.

5

=1×10^-11.5，K_a2＞K_h，HSeO₃^-的電離程度大于水解程度，溶液顯酸性，所以KHSeO₃溶液pH＜7

KHSeO₃溶液中既存在HSeO₃^-的電離：HSeO₃^-?SeO₃^2-+H⁺，也存在HSeO₃^-的水解：HSeO₃^-+H₂O?H₂SeO₃+OH^-，由圖可知，HSeO₃^-的電離平衡常數(shù)K_a2=10^-7.3，HSeO₃^-的水解常數(shù)K_h=

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-

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.

5

=1×10^-11.5，K_a2＞K_h，HSeO₃^-的電離程度大于水解程度，溶液顯酸性，所以KHSeO₃溶液pH＜7

。
③已知硒酸的電離方程式為：H₂SeO₄═H⁺+HSeO₄^-，HSeO₄^-?H⁺+SeO₄^2-。25℃時(shí)，下列關(guān)于0.1mol?L^-1NaHSeO₄溶液的說(shuō)法錯(cuò)誤的是

BC

BC

。
A．c（Na⁺）＞c（HSeO₄^-）＞c（H⁺）＞c（SeO₄^2-）＞c（OH^-）
B．c（H⁺）=c（OH^-）+c（SeO₄^2-）+c（H₂SeO₄）
C．c（HSeO₄^-）+c（SeO₄^2-）+c（H₂SeO₄）=0.1mol?L^-1
D．c（Na⁺）+c（H⁺）=c（HSeO₄^-）+2c（SeO₄^2-）+c（OH^-）