19.稀有氣體曾被認(rèn)為無(wú)法形成化合物,近年來(lái)稀有氣體化合物的合成蓬勃發(fā)展。
Ⅰ.巴特列在一定條件下,用PtF
6與Xe制得了第一個(gè)稀有氣體化合物XePtF
6.XePtF
6由Xe
+和
構(gòu)成,XePtF
6的晶格能為460.6kJ?mol
-1(晶格能是指將1mol離子晶體完全氣化為氣態(tài)陰、陽(yáng)離子所吸收的能量),請(qǐng)寫出氣態(tài)Xe
+和氣態(tài)
.形成1molXePtF
6晶體的熱化學(xué)方程式:
(不考慮溫度和壓強(qiáng))。
Ⅱ.氙的氟化物被廣泛用作刻蝕劑、氧化劑和氟化劑,常用Xe和F
2制備XeF
2,反應(yīng)體系存在如下平衡(以下實(shí)驗(yàn)均在恒容條件下進(jìn)行):
反應(yīng)i:Xe(g)+F
2(g)?XeF
2(g)K
1反應(yīng)ii:Xe(g)+2F
2(g)?XeF
4(g)K
2反應(yīng)iii:Xe(g)+3F
2(g)?XeF
6(g)K
3
溫度/℃ |
K1 |
K2 |
250 |
8.79×104 |
1.26×108 |
400 |
3.59×102 |
1.74×103 |
(1)關(guān)于上述反應(yīng),下列有關(guān)說(shuō)法正確的是
(填標(biāo)號(hào))。
A.當(dāng)體系總壓不再改變時(shí),反應(yīng)達(dá)到平衡
B.當(dāng)Xe與F
2的投料比為1:1時(shí),F(xiàn)
2的平衡轉(zhuǎn)化率大于Xe
C.達(dá)到平衡后將XeF
2從體系中移除,反應(yīng)i、ii、iii均正向移動(dòng)
(2)升高溫度,平衡XeF
2(g)+F
2(g)?XeF
4(g)
(填“正向移動(dòng)”“逆向移動(dòng)”或“不移動(dòng)”),理由是
。
(3)在400℃條件下,向1L容器內(nèi)通入21.32molXe和40.35molF
2,tmin后反應(yīng)達(dá)平衡.平衡時(shí)各產(chǎn)物的物質(zhì)的量(n)如下表所示:
物質(zhì) |
XeF2 |
XeF4 |
XeF6 |
n/mol |
3.59 |
17.40 |
00 |
①tmin內(nèi),Xe的平均反應(yīng)速率為
mol?L
-1?min
-1。
②平衡時(shí)F
2的轉(zhuǎn)化率的區(qū)間為
(填標(biāo)號(hào))。
A.50%~60%
B.70%~80%
C.90%~100%
③400℃時(shí)反應(yīng)iii的平衡常數(shù)K
3=
。
(4)向某恒容密閉容器中充入一定量的Xe和F
2,發(fā)生反應(yīng)i、ii、iii,平衡時(shí)容器中XeF
2、XeF
4、XeF
6的分布分?jǐn)?shù)δ[如δ(XeF
2)=
]隨溫度的變化如圖所示(已知反應(yīng)iii為放熱反應(yīng))。δ(XeF
4)先增大后減小的原因是
(用平衡移動(dòng)原理解釋)。
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