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當(dāng)前位置： 2022-2023學(xué)年云南省昆明市官渡區(qū)八年級(jí)（上）期末數(shù)學(xué)試卷> 試題詳情

芯片是由很多晶體管組成的，而芯片技術(shù)追求體積更小的晶體管，以便獲得更小的芯片和更低的電力功耗．目前，某品牌手機(jī)自主研發(fā)了最新型號(hào)芯片，其晶體管柵極的寬度為0.000 000 007毫米，將數(shù)據(jù)0.000 000 007用科學(xué)記數(shù)法表示為（　?。?/div>

A．7×10^-8

B．7×10^-9

C．0.7×10^-8

D．0.7×10^-9

【考點(diǎn)】科學(xué)記數(shù)法—表示較小的數(shù)．

【答案】B

【解答】

【點(diǎn)評(píng)】

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發(fā)布：2024/9/29 0:0:1組卷：651引用：14難度：0.8

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1．某種細(xì)菌的半徑約為0.00000023米，數(shù)據(jù)0.00000023用科學(xué)記數(shù)法表示為（　?。?/div>
A．0.23×10^-7 B．2.3×10^-7 C．2.3×10^-6 D．23×10^-6
發(fā)布：2024/10/19 17:0:4組卷：806引用：4難度：0.7
解析
2．光刻機(jī)采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上，是制造芯片的核心裝備．ArF準(zhǔn)分子激光是光刻機(jī)常用光源之一，其波長(zhǎng)為0.000000193米，該光源波長(zhǎng)用科學(xué)記數(shù)法表示為（　?。?/div>
A．193×10⁶米 B．193×10^-9米
C．1.93×10^-7米 D．1.93×10^-9米
發(fā)布：2024/10/19 9:0:1組卷：174引用：1難度：0.8
解析
3．2023年9月9日，上海微電子研發(fā)的28nm浸沒式光刻機(jī)的成功問世，標(biāo)志著我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域邁出了堅(jiān)實(shí)的一步．已知28nm為0.000000028米，數(shù)據(jù)0.000000028用科學(xué)記數(shù)法表示為（　?。?/div>
A．2.8×10^-10 B．2.8×10^-8 C．2.8×10^-6 D．2.8×10^-9
發(fā)布：2024/10/20 14:0:2組卷：1762引用：28難度：0.8
解析

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A．193×10⁶米	B．193×10^-9米
C．1.93×10^-7米	D．1.93×10^-9米