硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣．請(qǐng)回答下列問題：
制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅．三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如圖所示：

（1）寫出由純SiHCl₃制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式：

SiHCl₃+H₂

高溫

Si+3HCl

SiHCl₃+H₂

高溫

Si+3HCl

．
（2）整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧．SiHCl₃遇水劇烈反應(yīng)生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式：

SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃↓+3HCl↑+H₂↑

SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃↓+3HCl↑+H₂↑

；
H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂，可能引起的后果是

氧氣與氫氣混合，可能引起爆炸

氧氣與氫氣混合，可能引起爆炸

．