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試題詳情
芯片是電子設備的心臟和大腦。光刻機是制造芯片的核心裝備。某種光刻機的原理如圖所示。其工作原理是先在硅片表面涂一層光刻膠，再用光源光束透過事先設計好集成電路圖的鏤空掩膜，經(jīng)過凸透鏡照射下面的硅片，被光線照射到的光刻膠發(fā)生反應，硅片上就會出現(xiàn)相應的電路圖案。某款光刻機選用凸透鏡的焦距為f,會使硅片上最終出現(xiàn)清晰縮小的電路圖案，則鏤空掩膜和凸透鏡間的距離u與f的關系需滿足（ ?。?/h1>
【考點】凸透鏡成像規(guī)律的應用．
【答案】C
【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/6/4 8:0:5組卷：19引用：0難度：0.6
