點(diǎn)擊化學(xué)的代表反應(yīng)為銅催化的疊氮一炔基Husigen環(huán)加成反應(yīng)，NaN₃、SO₂F₂、FSO₂N₂等均是點(diǎn)擊化學(xué)中常用的無機(jī)試劑?；卮鹣铝袉栴}：
（1）基態(tài)Cu⁺核外電子排布式為

1s²2s²2p⁶3s²3p⁶3d¹⁰

1s²2s²2p⁶3s²3p⁶3d¹⁰

；基態(tài)O原子未成對電子有

2

2

個。
（2）F、O、N、C的第一電離能從小到大的順序是

C＜O＜N＜F

C＜O＜N＜F

。
（3）

NO

-

2

離子的VSEPR模型為

平面三角形

平面三角形

，寫出

NO

-

2

離子的一種等電子體

O₃

O₃

。從分子結(jié)構(gòu)角度分析，HNO₃酸性強(qiáng)于HNO₂的原因是

HNO₃中的N為+5價，其N的正電性強(qiáng)于HNO₂中的N，使羥基中O-H鍵極性增強(qiáng)，共用電子對更偏向O原子，羥基更易電離出H⁺，所以酸性HNO₃強(qiáng)于HNO₂

HNO₃中的N為+5價，其N的正電性強(qiáng)于HNO₂中的N，使羥基中O-H鍵極性增強(qiáng)，共用電子對更偏向O原子，羥基更易電離出H⁺，所以酸性HNO₃強(qiáng)于HNO₂

。
（4）是一種疊氮一炔基Husigen環(huán)加成反應(yīng)產(chǎn)物，該分子中N原子的雜化方式為

sp²和sp³

sp²和sp³

。
（5）NH₃分子中H-N-H鍵角為107°。如圖一是[Zn（NH₃）₆]²⁺的部分結(jié)構(gòu)以及H-N-H鍵角的測量值。解釋NH₃形成[Zn（NH₃）₆]²⁺后H-N-H鍵角變大的原因：

NH₃分子中N原子的孤電子對進(jìn)入Zn²⁺的空軌道形成配位鍵后，原孤電子對與成鍵電子對間的排斥作用變?yōu)槌涉I電子對間的排斥，排斥作用減弱

NH₃分子中N原子的孤電子對進(jìn)入Zn²⁺的空軌道形成配位鍵后，原孤電子對與成鍵電子對間的排斥作用變?yōu)槌涉I電子對間的排斥，排斥作用減弱

。
（6）CuBr是點(diǎn)擊化學(xué)常用的催化劑，其晶胞結(jié)構(gòu)如圖二所示，晶胞參數(shù)為apm。已知①、②號銅原子坐標(biāo)依次為（0，0，0）、（

1

2

，0，

1

2

），則④號溴原子的坐標(biāo)為

（

3

4

，

3

4

，

1

4

）

（

3

4

，

3

4

，

1

4

）

；CuBr的密度為dg?cm^-3，請用a和d表示阿伏加德羅常數(shù)的值

5

.

76

×

1

0

32

d

a

3

5

.

76

×

1

0

32

d

a

3

。