1．鉛、銅是芯片焊接和封裝工藝過程中常用的金屬材料，采用“火法工藝”和“濕法工藝”均可將鉛冰銅冶煉成鉛和銅。
已知：i.鉛冰銅成分：Cu₂S、PbS及少量FeS、ZnS；富冰銅主要成分：Cu₂S、FeS。
ii.Cu₂S、PbS難溶于酸，F(xiàn)eS、ZnS可溶于酸。
iii.0.1mol?L^-1Fe²⁺沉淀為Fe（OH）₂，起始的pH為6.3，完全沉淀的pH為8.3；0.1mol?L^-1Fe³⁺沉淀為FeOOH，起始的pH為1.5，完全沉淀的pH為2.8。
Ⅰ．火法工藝：

（1）“第一次熔煉”過程中，控制空氣用量可使鐵以FeS的形式留在富冰銅中。
①“熔煉”時(shí)鐵可以將PbS中的鉛置換出來，化學(xué)方程式是 。
②富冰銅中的Cu₂S轉(zhuǎn)化生成1mol銅時(shí)，理論上至少需要反應(yīng) molO₂。
③控制空氣用量進(jìn)行二次熔煉而不能使用足量空氣一次性熔煉的原因是 。
Ⅱ．濕法工藝：

（2）“酸浸”過程是用過量稀硫酸浸取鉛冰銅。
①氧氣可將Cu₂S氧化成硫和Cu²⁺，酸浸液中的陽離子還有 。
②廢電解液不能循環(huán)使用次數(shù)過多，原因是 。
（3）用廢電解液制備ZnSO₄和鐵黃。
①經(jīng)氧氣處理后的廢電解液中。c（Fe³⁺）實(shí)際濃度大于0.1mol?L^-1，則用ZnO調(diào)節(jié)溶液pH 1.5（填“＞”、“＜”或“=”）時(shí)開始有FeOOH沉淀析出。
②廢電解液中Fe²⁺轉(zhuǎn)化為鐵黃的離子方程式是 。
（4）“濕法工藝”與“火法工藝”處理鉛冰銅相比，濕法工藝的優(yōu)點(diǎn)是 。

2．Mn₃O₄可用于電子工業(yè)生產(chǎn)軟磁鐵氧體，用作電子計(jì)算機(jī)中存儲(chǔ)信息的磁芯，磁盤等。工業(yè)上以軟錳礦（主要成分是MnO₂，還含有少量的Fe₂O₃、SiO₂、Al₂O₃）為原料生產(chǎn)Mn₃O₄的工藝流程如圖：

相關(guān)金屬離子濃度為0.1mol?L^-1形成氫氧化物沉淀的pH范圍如下：

金屬離子	Fe3+	Fe2+	Al3+	Mn2+
開始沉淀的pH	1.5	6.3	3.4	8.1
沉淀完全的pH	2.8	8.3	4.7	10.1

回答下列問題：
（1）“酸浸、還原”時(shí)，為了加快化學(xué)反應(yīng)速率，可以采取的措施有 （寫出一種即可）。鐵屑與MnO₂發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為 。
（2）“調(diào)節(jié)pH”時(shí)，加入H₂O₂溶液的目的是 ，“調(diào)節(jié)pH”的范圍為 。
（3）“沉錳”時(shí)，其他條件一定，沉錳過程中錳離子的沉淀率與溶液溫度的關(guān)系如圖所示。50℃后，溶液溫度越高，錳離子的沉淀率越低，原因是 。

（4）25℃時(shí)，當(dāng)溶液中c（Fe³⁺）=0.1mol?L^-1且溶液的pH=1.5時(shí)，F(xiàn)e³⁺開始產(chǎn)生沉淀。則25℃時(shí)K_sp[Fe（OH）₃]=。

3．碲（Te）屬于氧族元素，廣泛應(yīng)用于冶金、能源、化工等行業(yè)。碲化亞銅渣中主要含有Cu和Te元素，并以Cu₂Te、Cu及Te的形式存在，此外還含少量Au、Ag等元素。以碲化亞銅渣為原料制備TeO₂及膽礬的流程如圖：

已知：①TeO₂是兩性氧化物，難溶于水；
②“酸浸”過程中Te元素先生成H₂TeO₃，隨著溶液pH的提高，生成TeO₂進(jìn)入酸浸渣中。
回答下列問題：
（1）H₂TeO₃的化學(xué)名稱為 。
（2）“酸浸”時(shí)，適宜的控溫方式為 ，寫出該步驟Cu發(fā)生反應(yīng)的離子方程式：；碲化亞銅發(fā)生反應(yīng)中，參加反應(yīng)的氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為 。
（3）實(shí)驗(yàn)室中，“操作X”用到的玻璃儀器有玻璃棒、。
（4）寫出“堿浸”時(shí)，TeO₂與NaOH反應(yīng)的化學(xué)方程式：。
（5）“沉碲”時(shí)，控制溶液的pH為4.5～5.0，生成TeO₂沉淀。酸性不能過強(qiáng)的原因是 ；防止局部酸度過大的操作方法是 。