SiHCl₃是合成多晶硅的重要原料，可由硅粉與HCl（g）制備，原理如下。
主反應：（Ⅰ）Si（s）+3HCl（g）?SiHCl₃（g）+H₂（g）    ΔH₁
副反應：（Ⅱ）Si（s）+4HCl（g）?SiCl₄（g）+2H₂（g）    ΔH₂
（Ⅲ）Si（s）+2HCl（g）?SiH₂Cl₂（g）    ΔH₃
回答下列問題：
（1）反應4SiHCl₃（g）?Si（s）+3SiCl₄（g）+2H₂（g）的△H

3ΔH₂-4ΔH₁

3ΔH₂-4ΔH₁

（用△H₁和△H₂表示）。
（2）當

n

（

HC

l

）

n

（

S

i

）

=3時，3的平衡產率（η）隨壓強、溫度的變化關系如圖（a）所示；在0.10MPa,

n

（

n

C

l

）

n

（

S

i

）

分別為1：1、3：1、6：1時，η與溫度的關系如圖（b）所示。

①△H₁

小于

小于

0（填“大于”或“小于”）；圖（a）中壓強從大到小的順序是

p₁＞p₂＞p₃

p₁＞p₂＞p₃

。
②圖（b）中，

n

（

n

C

l

）

n

（

S

i

）

=6：1時，SiHCl₃的平衡產率極低，其原因可能是

生成SiHCl₃選擇性差

生成SiHCl₃選擇性差

。
（3）在恒壓密閉容器中，加入1molSi,充入3molHCl和m mol稀有氣體，在溫度T、壓強p條件下進行反應（不考慮副反應）。平衡時，SiHCl₃的物質的量為nmol,則H₂的平衡分壓為

np

3

-

n

+

m

np

3

-

n

+

m

，平衡常數(shù)K_p=

n

2

（

3

-

n

+

m

）

（

3

-

3

n

）

3

p

n

2

（

3

-

n

+

m

）

（

3

-

3

n

）

3

p

（以分壓表示，分壓=總壓×物質的量分數(shù)）。