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高純晶體硅是信息技術(shù)的關(guān)鍵材料.

(1)硅元素位于周期表的位置
第三周期第ⅣA族
第三周期第ⅣA族
.下面有關(guān)硅材料的說(shuō)法中正確的是
BCD
BCD
(填字母).
A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料---光導(dǎo)纖維
D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,故在玻璃尖口點(diǎn)燃H2時(shí)出現(xiàn)黃色火焰
E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(2)工業(yè)上用石英砂和焦炭可制得粗硅.已知:圖1
請(qǐng)將以下反應(yīng)的熱化學(xué)方程式補(bǔ)充完整:SiO2(s)+2C(s)═Si(s)+2CO(g)△H=
+638.4 kJ?mol-1
+638.4 kJ?mol-1

(3)粗硅經(jīng)系列反應(yīng)可生成硅烷(SiH4),硅烷分解生成高純硅.已知硅烷的分解溫度遠(yuǎn)低于甲烷,用原子結(jié)構(gòu)解釋其原因:
C和Si最外層電子數(shù)相同,C原子半徑小于Si
C和Si最外層電子數(shù)相同,C原子半徑小于Si
,Si元素的非金屬性弱于C元素,硅烷的熱穩(wěn)定性弱于甲烷.
(4)將粗硅轉(zhuǎn)化成三氯氫硅(SiHCl3),進(jìn)一步反應(yīng)也可制得高純硅.
①SiHCl3中含有的SiCl4、AsCl3等雜質(zhì)對(duì)晶體硅的質(zhì)量有影響.根據(jù)下表數(shù)據(jù),可用
蒸餾(或分餾)
蒸餾(或分餾)
 方法提純SiHCl3
物質(zhì)SiHCl3SiCl4AsCl3
沸點(diǎn)/℃32.057.5131.6
②用SiHCl3制備高純硅的反應(yīng)為SiHCl3(g)+H2(g) 
一定條件下
Si(s)+3HCl(g),不同溫度下,SiHCl3的平衡轉(zhuǎn)化率隨反應(yīng)物的投料比(反應(yīng)初始時(shí),各反應(yīng)物的物質(zhì)的量之比)的變化關(guān)系如圖所示.下列說(shuō)法正確的是
ac
ac
(填字母序號(hào)).

a.該反應(yīng)的平衡常數(shù)隨溫度升高而增大 
 b.橫坐標(biāo)表示的投料比應(yīng)該是
n
S
i
HC
l
3
n
H
2

c.實(shí)際生產(chǎn)中為提高SiHCl3的利用率,應(yīng)適當(dāng)升高溫度
③整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧.SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式:
SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+H2↑+3HCl↑
SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+H2↑+3HCl↑

【答案】第三周期第ⅣA族;BCD;+638.4 kJ?mol-1;C和Si最外層電子數(shù)相同,C原子半徑小于Si;蒸餾(或分餾);ac;SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+H2↑+3HCl↑
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布:2024/4/20 14:35:0組卷:30引用:1難度:0.1
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    發(fā)布:2025/1/16 8:0:1組卷:75引用:7難度:0.9
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