近年我國“中國芯”(主要成分為單質(zhì)硅)自主研發(fā)再獲突破。工業(yè)上通過反應(yīng)①Si+3HCl 300℃ SiHCl3+H2和反應(yīng)②SiHCl3+H2 1100℃ Si+3HCl,由粗硅制得高純硅。下列說法正確的是( )
300
℃
1100
℃
【考點】電子排布式與電子排布圖;原子核外電子排布.
【答案】C
【解答】
【點評】
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發(fā)布:2024/5/27 14:0:0組卷:31引用:1難度:0.5
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