光刻技術是現(xiàn)代半導體集成電路的關鍵一環(huán)，其工作原理如圖所示。光源發(fā)出強紫外光，調(diào)整鏤空掩膜版和縮圖透鏡之間的距離，使光通過二者后，恰好能在硅片上成清晰的像，從而實現(xiàn)納米級集成電路的“雕刻”，下列說法錯誤的是（ ?。?/h1>
【考點】凸透鏡成像規(guī)律的應用．
【答案】D
【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/5/27 14:0:0組卷：156引用：1難度：0.7
