硅（Si）是一種重要的半導(dǎo)體材料，應(yīng)用范圍很廣。三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程如圖所示：
（1）硅屬于 非金屬非金屬（填“金屬”或“非金屬”）元素；二氧化硅中，硅元素的化合價為 +4+4。
（2）寫出上述流程中一種氧化物的化學(xué)式 SiO2或COSiO2或CO。
（3）上述流程中①、④反應(yīng)的化學(xué)方程式為 SiO2+2C 高溫 Si+2CO↑SiO2+2C 高溫 Si+2CO↑； SiHCl3+H2 高溫 Si+3HClSiHCl3+H2 高溫 Si+3HCl。①反應(yīng)中焦炭具有 還原還原性。
（4）如果還原SiHCl3過程中混入了O2，可能引起的后果是 可能爆炸可能爆炸。
（5）該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)的化學(xué)式是 HClHCl。
高溫
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【答案】非金屬；+4；SiO2或CO；SiO2+2C Si+2CO↑；SiHCl3+H2 Si+3HCl；還原；可能爆炸；HCl
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【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/6/27 10:35:59組卷：5引用：2難度：0.5
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